半導體使用臭氧水清洗處理方法

①減少化學藥品的使用

a) 半導體用化學藥品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW)，但是SC1 和SC2是相對較貴，并且需在60-100 ℃的高溫條件下發(fā)生作用，難以使用。而近年，臭氧水作為可替代SC1 和SC2 的新的清洗方式， 受到廣泛關注。因為僅僅是將純凈水通過臭氧水生成器，便可以簡單地產生臭氧，因此可大大降低運營成本。

b) 使用臭氧水進行清洗處理后，臭氧成分便迅速蒸發(fā)，因此廢水處理也十分容易。

②出色的清洗能力(顆粒， 金屬污染物，有機物質)

因為臭氧擁有僅次于氟素的氧化還原能力，其清洗能力高于SC1、SC2尤其是用于清洗表面很難氧化的碳化硅或氮化鎵基板也十分有效。(兩者作為半導體材料受到廣泛關注）

推薦的清洗處理方法

※清洗裝置使用枚葉式主軸。